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年度 2015
全部作者 Shih-Hung Lin, You-Lin Wu, Yu-Huei Hwang , Jing-Jenn Lin
作者類別 First Author
論文名稱 Study of Radiation Hardness of HfO2-based Resistive Switching Memory at Nanoscale by Conductive Atomic Force Microscopy
期刊名稱 Microelectronics reliability
卷數 55
期數 11
起頁 2224
迄頁 2228
期刊等級 SCI,EI
總頁數 5
語言 英文